哈西奈德乳膏

恩曲他滨替诺福韦片

本品主要成份为哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。

本品每片含200mg恩曲他滨和300mg富马酸替诺福韦二吡呋酯(相当于245mg替诺福韦二吡呋酯)

福元药业有限公司

安徽贝克生物制药有限公司

国药准字H34020378

国药准字H20203539

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

HIV-1感染、慢性乙型肝炎、艾滋病

外涂患处每日早晚各一次。

对该药过敏者；由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变；溃疡性病变；痤疮、酒渣鼻；眼睑部用药（有引起青光眼的危险）；渗出性皮肤病。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

HIV-1感染、慢性乙型肝炎、艾滋病

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）、皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应（参看注意事项）。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆性柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

1.恩曲他滨替诺福韦片不要作为三联核苷治疗方案的一个组分使用2.本品不应与恩曲他滨，替诺福韦二吡呋酯，拉米夫定或含有三者的固定剂量复方合并使用。3.接受过治疗的患者，本品的使用应按照实验室检査结果和患者治疗史进行。