哈西奈德乳膏

阿莫西林分散片

本品主要成份为哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。

本品主要成份阿莫西林。其化学名为(2S，5R，6R)-3，3-二甲基-6-[(R)-(-)-2-氨基-2-(4-羟基苯基)乙酰氨基]-7-氧代-4-硫杂-1-氮杂双环[3．2．O]庚烷-2-甲酸三水合物。

福元药业有限公司

石药集团中诺药业（石家庄）有限公司

国药准字H34020378

国药准字H20046510

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

呼吸道感染、泌尿生殖道感染、皮肤软组织感染、急性单纯性淋病、伤寒、其他由敏感菌引起的感染。

外涂患处每日早晚各一次。

对该药过敏者；由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变；溃疡性病变；痤疮、酒渣鼻；眼睑部用药（有引起青光眼的危险）；渗出性皮肤病。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

呼吸道感染、泌尿生殖道感染、皮肤软组织感染、急性单纯性淋病、伤寒、其他由敏感菌引起的感染。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）、皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应（参看注意事项）。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆性柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

1、用药前必须进行青霉素钠皮内敏感试验，阳性反应者禁用。2、伴有单核细胞增多和淋巴细胞增多的患者，出现皮疹的机会多一些。3、与青霉素类和头孢菌素类之间存在交叉过敏性和交叉耐药性。4、类似其它广谱抗生素，有可能发生由白念珠菌等非敏感微生物引起的二重感染，尤其是慢性病患者和自身免疫功能失调者。