哈西奈德乳膏

盐酸米诺环素软膏

本品主要成份为哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。

盐酸米诺环素。

福元药业有限公司

SunstarINCJapan(日本)

国药准字H34020378

H20150106

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

痤疮、毛囊炎、脓疱病、疖肿、烧伤创面感染、外伤继发性感染、痔疮感染、皮肤溃疡感染、脓皮病、疥疮、湿疹合并感染、足癣合并感染、花斑癣合并感染、寻常狼疮、孢子丝菌病、霉菌性毛囊炎、口腔组织细胞增生症、放线菌病、梅毒、淋病、软下疳、生殖道支原体感染、衣原体感染、滴虫病、阴虱、疥疮等。

外涂患处每日早晚各一次。

对该药过敏者；由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变；溃疡性病变；痤疮、酒渣鼻；眼睑部用药（有引起青光眼的危险）；渗出性皮肤病。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

痤疮、毛囊炎、脓疱病、疖肿、烧伤创面感染、外伤继发性感染、痔疮感染、皮肤溃疡感染、脓皮病、疥疮、湿疹合并感染、足癣合并感染、花斑癣合并感染、寻常狼疮、孢子丝菌病、霉菌性毛囊炎、口腔组织细胞增生症、放线菌病、梅毒、淋病、软下疳、生殖道支原体感染、衣原体感染、滴虫病、阴虱、疥疮等。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）、皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应（参看注意事项）。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆性柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

过敏反应必须注意观察，一旦出现过敏征兆（搔痒，发红，肿胀，丘疹，水泡等）即停止用药。局部如出现耐药性或不敏感菌所致的感染症应停止用药。只限用于牙科。使用时：用药前去除软垢，龈上菌斑及牙石。为了使药物充满牙周袋，需将注射器的头部轻插至牙周袋底部。注药后不得立即漱口及进食。注药时，患部可能出现一时刺激或疼痛，缓慢注药可明显减轻此症状。如症状不见改善，应改用其他疗法。