哈西奈德乳膏

二硫化硒洗剂

本品主要成份为哈西奈德。

本品每克含主要成份二硫化硒25毫克。辅料为：二氧化钛、甘油、皂土、枸橼酸、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯、N.N-油酰甲基硫磺酸盐、十二烷基甜菜碱、十二烷基硫酸钠、二氧化钛、柠檬酸、单硬脂酸甘油脂、硫酸二氢钠、皂土、羊毛脂、甘油、香精、纯化水。

广东华润顺峰药业有限公司

江苏迪赛诺制药有限公司

国药准字H44023372

国药准字H10800003

用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于去头屑、防治皮脂溢出、头皮脂溢性皮炎、花斑癣(汗斑)。

外涂患处每日早晚各一次。

1.治疗头皮屑和头皮脂溢性皮炎。(1)先用肥皂清洗头发和头皮。(2)取5～10克药液于湿发及头皮上，轻揉至出泡沫。(3)待3～5分钟后，用温水洗净，必要时可重复一次。(4)每周2次，一个疗程2～4周，必要时可重复1个或2个疗程。2.治疗花斑癣。(1)洗净患处。(2)根据病患面积取适量药液涂抹(一般10至30克)。(3)保留10～30分钟后用温水洗净。(4)每周2次，一个疗程2～4周，必要时可重复1个或2个疗程。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张(尤其面部)、皮肤萎缩、萎缩纹(青少年易发生)、皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应(参看注意事项)。

偶可引起接触性皮炎、头发或头皮干燥、头发脱色。

孕妇及哺乳期妇女用药：尚无人局部用药致畸作用的研究，妊娠期应慎用。外用经皮吸收大量时可从乳汁排泄，哺乳期慎用。儿童用药：应为小面积，短期应用，一旦消退迅速停药，一岁以内儿童尽量不用此药。老年用药：尚不明确。

用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于去头屑、防治皮脂溢出、头皮脂溢性皮炎、花斑癣(汗斑)。

本品具有抗皮脂溢出作用，还具有一定的抗真菌作用。